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科毅科技股票新聞

科毅MCS 獲晶圓代工大廠肯定

04:102022/04/15  工商時報  本報訊

由科毅科技研發製造，並擁有多國專利的風刀式奈米級乾式光罩除塵機MCS，除了通過晶圓代工大廠驗證，乾式除塵率達95％，機台內每萬片晶圓曝片的落塵數從數百降到個位數，可用於3~5～200nm奈米EUV Reticle，同時相容KrF/ArF Reticle。

科毅科技表示，2021年國內晶圓代工大廠同意對科毅科技所擁有的技術解除獨家鎖定後，科毅科技也隨即向臺灣專利局申請新型發明專利「光罩清潔設備及光罩清潔方法」，並且已經通過了審查，為了提高的除塵率以及可以更全面的清潔光罩上的particle，第二代MCS的開發正在進行中。

科毅科技指出，透過MCS系統可以解決pellicle撕掉、重工的問題，簡單的說，只需幫生產線清潔六次的Pellicle，讓它可以重複利用就可以賺回一台MCS投資，換句話說：第七片以後都是晶圓廠賺的。

2020年ASML全球stepper的交付數量為258台，2022年全球估計會超過320台，基於科毅MCS的獨特性，專利保護和提早佈局，今年預估市場出貨量可達50％（未考慮半導體工廠現有的設備）。

半導體晶片七大設備包括光刻機、蝕刻機、鍍膜設備、量測機、清洗機、離子機以及其他設備，光刻機主要作用為將掩膜版上的晶片電路轉移到矽片，是IC製造的最高環節。科毅科技強調，自製塗布機、顯影機、光刻機等黃光相關設備，在中國市場方面，希望能達到40％的市占率為目標。

科毅科技今年將陸續推出一系列先進設備包括：風刀式奈米級光罩除塵機（MCS）、無光罩雷射直寫曝光機（LDI）、新型UV LED曝光頭、超薄型石英晶圓（塗佈、UV曝光機、顯影、光阻烘烤）全自動設備、專利矩形循邊晶背清洗機、晶圓翹區整平平台、深溝顯影補助風刀等機構導入半導體封裝產業之顯影擴展及模組化半自動曝光機，逐步朝向資本市場前進。

科毅曝光機 國內外愛用

半導體設備商科毅科技，開發出國內首台自主開發的方形基板（玻璃、陶瓷）及晶圓全自動「高速」曝光機，每小時200片以上，產品已切入國內外大廠，並陸續導入LED substrate、陶瓷基板、觸控面板等產業，已開始生產，未來將成公司主要成長動能。

該公司提供塗佈機、曝光機、光罩、平行光源、顯影機、蝕刻機等光電、半導體等設備之優良品質，透過獨特的研發製造技術，並設有class 1000等級無塵室。其中無塵室代工部份有一好消息：科毅科技為回饋國內外客戶大量黃光製程（工藝）需求，特開放新客戶第一次黃光製程測試免費。

總經理林憲維表示，公司設備具有高產量、高性價比、高效能、高精度及高自動化等特性，已獲得半導體先進封裝、主被動元件、觸控面板、光電顯示器、背光模組、太陽能、LED等產業採用，產品已能媲美國際水準。

科毅曝光機 強攻光電市場

黃光製程設備及材料專業廠科毅科技，去年喬遷至楊梅新廠後，業績一路走旺，總經理林憲維表示，明年科技業的設備支出保守，但科技產品朝向細線路發展，曝光機的需求不看淡。

科毅科技是少數有能力供應半導體級曝光機的廠商，精度與重覆再現性高，2009年更完成經濟部主導性新產品計畫，開發國內第一台IC封測廠晶圓級全自動曝光機，軟體與系統能力更上層樓。設備獲得國內晶圓封測廠採用，也帶來技術升級、強化系統整合能力的效益。

科毅以半導體業為跳板，邁向光電產業之路，近年在LED、LCD、聚光型太陽能及觸控面板均有顯赫的成績。其以鍍膜、曝光及顯影蝕刻為核心，提供客製化整線設計，深獲觸控面板大廠信賴。

林憲維表示，目前正與金屬中心、工研院及成大合作，研發新一代快速曝光機，能提升觸控面板作業速度一倍以上，為革命性進展。觸控玻璃的線路製作以印刷為主，雖然快速、成本較低，但缺點是最細的線寬也要50微米以上，是黃光製程的十倍以上。高階手機及平板電腦講求更高靈敏性，非用曝光機不可。

曝光機的價格高及作業速度比印刷慢，是最大的罩門。林憲維表示，快速曝光機問世後將逐漸克服改善。值得注意的是，為讓觸控玻璃有更佳的強度，能耐不慎摔落或重壓，部份T/P廠改變製程，將基板切成小片玻璃後再製作線路，也加重對曝光機的需求。

業者分析，印刷製作的觸控面板目前約為黃光曝光的十倍，在細線路趨勢下，以曝光替代印刷的情形將逐年明顯，這令人對於曝光機的中長期市場前景感到振奮。過去科技業總有外國的月亮比較圓的崇洋心理，但科毅以協助客戶製程研發及改善為賣點，成功扭轉了現況。林憲維強調，科毅是少數具備無塵室，可提供設備及製程驗證的業者，成為光電半導體完整技術方案的提供者，是科毅的經營定位。

科毅科技精密曝光機 黃光製程專用 市場評價高

科毅科技為黃光製程設備及材料專業廠，產品有旋轉式光阻塗佈機、烘乾機、光罩對準曝光機、顯影機、蝕刻機、UV平行光源及4~32吋光罩等，另亦供應光罩及光阻劑、顯影、蝕刻等化學藥液，客戶涵蓋半導體、LED、LCD、觸控面板及太陽能領域。

科毅的光阻塗佈機及曝光機有手動及全自動多種機型，可依客戶的製程需求來設計。總經理林憲維表示，許多長期客戶重複下單，但科毅並不是依照之前的機台複製，而會視客戶不同階段的需求予以重新設計，以提升性能及產出，並能超越舊機台。

該公司今年來自LED及觸控面板的曝光機訂單大增，營收將呈倍數成長；年中將搬至楊梅幼獅新廠，設置無塵室及精密加工設備，大幅提升服務能量。林憲維表示，科毅擁有嫻熟關鍵技術及精通組裝的人力，為最大的資產，並深受客戶信賴。該公司除了曝光頭等關鍵元件採用原廠，整機自製率很高，在售後服務提供有力的後盾。

該公司去年進行經濟部科專計劃，可望年中結案並推出新產品。以科毅的規模能夠得到政府上千萬經費挹注，協助先端技術研發，在業界並不多見，其卓越的實力不但提升企業形象，近年也吸引不少業界廠商主動上門。

科毅科技公司簡介

科毅為追求本公司之曝光機、塗佈機、光罩、平行光源、高靈敏CCD相機等光電設備之優良品質，不斷研發製造技術，並設有 class 1000 等級無塵室，使所造之曝光機、塗佈機、光罩、平行光源、高靈敏CCD相機等光電設備有更好的測試環境以提供國內外廠商更精密良好的光電儀器。目前提供的設備有：光罩對準曝光機、 UV 平行光源、光阻塗佈機、顯影機、光罩 (4 吋 ~32 吋 ) 。針對市場需求，科毅將持續研發新一代半導體檢測設備，期許成為光電製造設備、光阻類材料的專家。